鵬城半導(dǎo)體亮相*八屆***三代半導(dǎo)體論壇

一年一度行業(yè)盛會(huì)，*八屆***三代半導(dǎo)體論壇（ifws ）&*十九屆中國(guó)**半導(dǎo)體照明論壇（sslchina）于2023年2月7日-10日（7日?qǐng)?bào)到）在蘇州金雞湖凱賓斯基大酒店召開。
在這場(chǎng)被視為“***三代半導(dǎo)體行業(yè)*”的盛會(huì)上，由2014年諾貝爾物理獎(jiǎng)獲得者、日本工程院院士、美國(guó)工程院院士、中國(guó)工程院外籍院士、日本名古屋大學(xué)未來(lái)材料與系統(tǒng)研究所教授天野浩，美國(guó)工程院院士、美國(guó)國(guó)家發(fā)明家院士、中國(guó)工程院外籍院士、美國(guó)弗吉尼亞理工大學(xué)的大學(xué)特聘教授fred lee**200多個(gè)報(bào)告嘉賓，緊扣論壇“低碳智聯(lián)·同芯共贏”大會(huì)主題，將在開、閉幕大會(huì)、主題分會(huì)及同期共計(jì)近30余場(chǎng)次活動(dòng)中，全面展現(xiàn)*三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈*技術(shù)進(jìn)展及產(chǎn)業(yè)發(fā)展“風(fēng)向。
***三代半導(dǎo)體論壇（ifws）是由*三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟（casa）在中國(guó)地區(qū)舉辦的、具備較強(qiáng)影響力的*三代半導(dǎo)體領(lǐng)域年度盛會(huì)，是*****三代半導(dǎo)體新興產(chǎn)業(yè)發(fā)展；屆時(shí)鵬城半導(dǎo)體技術(shù)（深圳）有限公司（簡(jiǎn)稱：鵬城半導(dǎo)體）也受主辦方的邀請(qǐng)將攜多款真空鍍膜解決方案包括熱絲cvd金剛石設(shè)備、多功能磁控濺射儀、電子束蒸鍍?cè)O(shè)備、等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積等亮相該會(huì)議。
熱絲cvd金剛石設(shè)備（熱絲法化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)）：研發(fā)設(shè)計(jì)制造了熱絲cvd金剛石設(shè)備，分為實(shí)驗(yàn)型設(shè)備和生產(chǎn)型設(shè)備兩類。
設(shè)備主要用于微米晶和納米晶金剛石薄膜、導(dǎo)電金剛石薄膜、硬質(zhì)合金基金剛石涂層刀具、陶瓷軸承內(nèi)孔鍍金剛石薄膜等。例如可以制造大尺寸金剛石多晶晶圓片，用于大功率器件、高頻器件及大功率激光器的散熱熱沉；可用于生產(chǎn)制造防腐耐磨硬質(zhì)涂層；環(huán)保領(lǐng)域污水處理用的耐腐蝕金剛石導(dǎo)電電極等。
可用于平面工件的金剛石薄膜制備，也可用于刀具表面或其它不規(guī)則表面的金剛石硬質(zhì)涂層制備。
平面工作尺寸：圓形平面工作的尺寸：較大φ650mm。
矩形工作尺寸的寬度600mm/長(zhǎng)度可根據(jù)鍍膜室的長(zhǎng)度確定（如：工件長(zhǎng)度1200mm）。
配置冷水樣品臺(tái)。
熱絲電源功率：可達(dá)300kw，1kw ～300kw可調(diào)（可根據(jù)用戶工藝需求配置功率范圍）
多功能磁控濺射儀（磁控濺射鍍膜機(jī)）是用磁控濺射的方法，制備金屬、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷、介質(zhì)復(fù)合膜及其它化學(xué)反應(yīng)膜等；適用于鍍制各種單層膜、多層膜、摻雜膜系及合金膜；可鍍制磁性材料和非磁性材料。
設(shè)備關(guān)鍵技術(shù)特點(diǎn)
秉承設(shè)備為工藝實(shí)現(xiàn)提供實(shí)現(xiàn)手段的理念，我們做了如下設(shè)計(jì)和工程實(shí)現(xiàn)，實(shí)際運(yùn)行效果良好，為用戶的**工藝實(shí)現(xiàn)提供了精準(zhǔn)的工藝設(shè)備方案。
靶材背面和濺射靶表面的結(jié)合處理
-靶材和靶面直接做到面接觸是很難的，如果做不到面接觸，接觸電阻將增大，導(dǎo)致離化電場(chǎng)的幅值不夠（接觸電阻增大，接觸面的電場(chǎng)分壓增大），導(dǎo)致鍍膜效果不好；電阻增大導(dǎo)致靶材發(fā)熱升溫，降低鍍膜質(zhì)量。
-靶材和靶面接觸不良，導(dǎo)致水冷效果不好，降低鍍膜質(zhì)量。
-增加一層特殊導(dǎo)電導(dǎo)熱的軟薄的物質(zhì)，保證面接觸......
電子束蒸鍍?cè)O(shè)備（高真空電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)）是在高真空條件下，采用電子束轟擊材料加熱蒸發(fā)的方法，在襯底上鍍制各種金屬、氧化物、導(dǎo)電薄膜、光學(xué)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、超硬膜等；可鍍制混合物單層膜、多層膜或摻雜膜；可鍍各種高熔點(diǎn)材料。
真空性能
極限真空：7×10^-5pa～7×10^-6pa
設(shè)備總體漏放率：關(guān)機(jī)12小時(shí)，≤10pa
恢復(fù)工作真空時(shí)間短，大氣至7×10^-4pa≤30分鐘；
小編在此就不一一介紹啦，2023年2月7日-10日在蘇州金雞湖凱賓斯基大酒店與您**技術(shù)交流與探討。蘇州不見不散！
鵬城半導(dǎo)體技術(shù)（深圳）有限公司專注于pvd鍍膜設(shè)備,化學(xué)氣相沉積c,金剛石涂層,分子束外延mbe等