磁控多弧復(fù)合鍍膜設(shè)備-大連鍍膜設(shè)備-至成鍍膜設(shè)備生產(chǎn)廠家

在鍍膜的過(guò)程中，出現(xiàn)異樣具體該真么處理呢？
大家在鍍膜的過(guò)程中，可能有時(shí)候會(huì)發(fā)現(xiàn)，膜層上有時(shí)會(huì)出現(xiàn)白點(diǎn)的異樣發(fā)生，經(jīng)過(guò)技術(shù)人員的檢測(cè)和排查，大部分都是因?yàn)楫a(chǎn)品周轉(zhuǎn)運(yùn)輸或在爐內(nèi)生產(chǎn)時(shí)素材受到污染，產(chǎn)品表面有塵點(diǎn)、毛絲等，pvd出爐后灰塵脫落露出底材顏色。所以大家在使用真空磁控濺射鍍膜機(jī)鍍膜過(guò)程中縮短產(chǎn)品在爐外停滯時(shí)間及爐內(nèi)潔凈度管控，減少*掉落在產(chǎn)品表面。有時(shí)膜層也會(huì)出現(xiàn)掉膜（點(diǎn)狀掉膜、局部掉膜、邊緣掉膜）情況，不知道大家有沒(méi)有碰到過(guò)。它主要產(chǎn)生的原因是產(chǎn)品表面臟污，膜層無(wú)法在產(chǎn)品上沉積或結(jié)合力差，在自然或人為的因素下產(chǎn)品表面漏出底材，所以大家在鍍膜*定要把產(chǎn)品清洗干凈，避免污染產(chǎn)品，確保表面潔凈度。還有一種經(jīng)常出現(xiàn)的情況，就是出現(xiàn)彩虹紋（產(chǎn)品發(fā)彩，出現(xiàn)這種情況主要原因是彩虹紋主要體現(xiàn)在顏色較深的產(chǎn)品上，因生產(chǎn)過(guò)程中形成一定角度遮擋，膜層無(wú)法均勻、有效的覆蓋在產(chǎn)品表面。因此鍍膜的時(shí)候，要更改更改裝夾方式，或者提高成膜能量。有的客戶(hù)會(huì)發(fā)現(xiàn)，產(chǎn)品鍍膜出來(lái)后會(huì)出現(xiàn)臟污情況，導(dǎo)致出現(xiàn)這個(gè)主要原因是產(chǎn)品出爐后周轉(zhuǎn)過(guò)程中因人為因素造成的表面污染,解決流程是產(chǎn)品pvd下掛、檢查、打包作業(yè)人員手套、指套潔凈度及環(huán)境管控。
多弧離子真空磁控濺射鍍膜機(jī)工作原理蒸發(fā)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)與工作原理介紹
多弧離子鍍膜機(jī)是一種、無(wú)害、*的離子鍍膜設(shè)備，具有堆積速度快、離化率高、離子能量大、設(shè)備操作簡(jiǎn)略、本錢(qián)低、出產(chǎn)量大的長(zhǎng)處。
真空多弧離子鍍膜機(jī)偏壓電源的作業(yè)原理
離子鍍膜正本是離子濺射鍍膜，關(guān)于導(dǎo)電靶材，運(yùn)用直流偏壓電源；非導(dǎo)電靶材，運(yùn)用脈沖偏壓電源。有的多弧離子鍍膜機(jī)，可能還需求直流電弧電源或脈沖電弧電源
偏壓電源正本即是在陰*和樣品所在位置的陽(yáng)*之間構(gòu)成偏壓電場(chǎng)，通常是陰*加負(fù)高壓。陰*外表的自由電子在電場(chǎng)效果下定向加快發(fā)射，發(fā)射電子炮擊氣體分子，使之電離，并且氣體被驅(qū)出的電子被電場(chǎng)加快，持續(xù)電離別的氣體分子，接二連三，構(gòu)成雪崩效應(yīng)，氣體被擊穿，構(gòu)成穩(wěn)定的電離電流。此刻離子也被加快，炮擊靶材，將靶材中的原子驅(qū)除出外表，并堆積在樣品外表。
真空電鍍?cè)O(shè)備的監(jiān)控方法1、目視監(jiān)控：使用眼睛監(jiān)控，因?yàn)楸∧ぴ谏L(zhǎng)的過(guò)程中，由于干涉現(xiàn)象會(huì)有顏色變化，我們就是根據(jù)顏色變化來(lái)控制膜厚度的，此種方式有一定的誤差，所以不是很準(zhǔn)確，需要依靠經(jīng)驗(yàn)。2、*值監(jiān)控法：當(dāng)膜厚度增加的時(shí)候其反射率和穿透率會(huì)跟著起變化，當(dāng)反射率或穿透率走到*值點(diǎn)的時(shí)候，就可以知道鍍膜之光學(xué)厚度nd是監(jiān)控波長(zhǎng)（入）的四分之一的整倍數(shù)。但是*值的方法誤差比較大，因?yàn)楫?dāng)反射率或者透過(guò)率在*值附近變化很慢，亦就是膜厚nd增加很多，r/t才有變化。反映比較靈敏的位置在八分之一波長(zhǎng)處。3.定值監(jiān)控法：此方法利用停鍍點(diǎn)不在監(jiān)控波長(zhǎng)四分之一波位，然后由計(jì)算機(jī)計(jì)算在波長(zhǎng)一時(shí)總膜厚之反射率是多少，此即為停止鍍膜點(diǎn)。