京邁研氮化鋯靶材ZrN磁控濺射材料電子束鍍膜蒸發(fā)料

3408 氮化鋯靶材zrn磁控濺射材料電子束鍍膜蒸發(fā)料【參數(shù)說明】
支持靶材定制，請?zhí)峁┌胁漠a(chǎn)品的元素、比例（重量比或原子比）、規(guī)格，我們會(huì)盡快為您報(bào)價(jià)?。?br>【產(chǎn)品介紹】
氮化鋯zr-n化合物隨著成份的變化而有多種晶體結(jié)構(gòu)，如:在zr-n合金體系中，已發(fā)現(xiàn)的合金化合物有zrn、o-zr3n4、c-zr3n4。它們不但具有優(yōu)異的化學(xué)性質(zhì)，不僅可以用在josephson結(jié)，擴(kuò)散式迭層，低溫度計(jì)等，還可以使用在三維集成電線圈，金屬基晶體管上。同時(shí)這些zr-n化合物在和腐蝕等方面優(yōu)于純鋯，而且具有較高的超導(dǎo)臨界溫度，所以可以有可能成為很好的超導(dǎo)體，具有很高的使用價(jià)值。
中文名
氮化鋯
熔點(diǎn)
2980&plun;50℃
化學(xué)式
zrn
密度
7.09克/立方厘米
分子量
105.23
【關(guān)于我們】
服務(wù)項(xiàng)目：靶材成份比例、規(guī)格、純度均可按需定制?？蒲袉挝回浀礁犊钍酆鬅o憂！
產(chǎn)品附件：發(fā)貨時(shí)產(chǎn)品附帶裝箱單/質(zhì)檢單/產(chǎn)品為真裝
適用儀器：多種型號(hào)磁控濺射、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)設(shè)備
質(zhì)量控制：嚴(yán)格控制生產(chǎn)工藝，采用輝光放電質(zhì)譜法gdms或icp光譜法等多種檢測手段，分析雜質(zhì)元素含量保證材料的高純度與細(xì)小晶粒度；可提供質(zhì)檢報(bào)告。
加工流程：熔煉→提純→鍛造→機(jī)加工→檢測→包裝出庫
陶瓷化合物靶材本身質(zhì)脆且導(dǎo)熱性差，連續(xù)長時(shí)間濺射易發(fā)生靶裂情況，綁定背靶后，可提高化合物靶材的導(dǎo)熱性能，提高靶材的使用壽命。我們強(qiáng)烈建議您，選購陶瓷化合物靶材一定要綁定銅背靶！
我公司采用高純銦作為焊料，銦焊厚度約為0.2mm，高純無氧銅作為背靶。
注 ：高純銦的熔點(diǎn)約為156℃，靶材工作溫度超過熔點(diǎn)會(huì)導(dǎo)致銦熔化！綁定背靶不影響靶材的正常使用！
建議：陶瓷脆性靶材、燒結(jié)靶材，高功率下濺射易碎，建議濺射功率不超過3w/cm2。
我公司主營金屬靶材、陶瓷靶材、合金靶材，歡迎您的垂詢。