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由于派瑞林涂膜是在常溫下以帶有雙游離基活性單體沉積的,先是單體沉落附著在印制板組件基體上,然后才是各單體的活性鍵的鍵合,從而連成一片,形成一個整體膜層。通過長期使用,派瑞林涂層*,我們發(fā)現(xiàn),派瑞林*性,涂敷層的各點就是一個*的保護點,當局部涂層損壞時,不會嚴重地影響其周邊區(qū)域涂層的防護性,同時涂敷層的各點又通過化學鍵連接一起,形成整體,更增強了其防護性能。
原子層沉積是在一個加熱反應器中的襯底上連續(xù)引入至少兩種氣相前驅體物種,化學吸附的過程直至表面飽和時就自動終止,適當?shù)倪^程溫度阻礙了分子在表面的物理吸附。
目前可以沉積的材料包括:氧化物,氮化物,氟化物,金屬,碳化物,復合結構,硫化物,納米薄層等。 中空納米管,隧道勢壘層,光電電池性能的提高,納米孔道尺寸的控制,高高寬比納米圖形,派瑞林鍍膜技術,微機電系統(tǒng)(mems)的反靜態(tài)阻力涂層和疏水涂層的種子層,納米晶體,znse涂層,納米結構,中空納米碗,存儲硅點涂層,納米顆粒的涂層,納米孔內部的涂層,納米線的涂層。
釹鐵硼稀土磁性材料是一種問世不久的新型強磁材料。目前國內常用兩種方法進行防護,一種是傳統(tǒng)的電鍍工藝在 鐵硼磁性材料表面鍍上鎳、鋅或錫、金等。這些涂層有時會影響磁性材料的表磁等特性,派瑞林,有的在鹽霧試驗時仍不能對釹鐵硼磁性材料提供有效的防護。另一種方法是用環(huán)氧樹脂材料進行電泳涂敷,但電泳涂敷時工件表面必須有一掛點,掛點的修補不僅費工費時,而且質量難以保證,而parylene涂層技術可控制涂層厚度進行無支點全涂敷防護。派瑞林(parylene)又是一種透氧、透水汽率非常低的高分子薄膜材料,目前國外小型釹鐵硼稀土磁性材料都已采用派瑞林(parylene)進行防護。
用制備派瑞林的方法是化學氣相沉積法(cvd),反應物質在氣態(tài)條件下發(fā)生空間氣相化學反應,在固態(tài)基體表面直接生成固態(tài)物質,進而在基材表面形成涂層的一種工藝技術。派瑞林薄膜制備過程為環(huán)狀二聚體在高溫下兩個相連碳碳鍵斷裂,生成具有活性的對二亞苯單體,當其從高溫環(huán)境進入室溫環(huán)境的沉積室時,不穩(wěn)定的單體就會聚合成膜。整個制備工藝過程分為三步:單體的汽化、裂解、在基材表面進行附著沉積。
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