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依據(jù)機(jī)械加工原理、半導(dǎo)體材料工程學(xué)、物力化學(xué)多相反應(yīng)多相催化理論、表面工程學(xué)、半導(dǎo)體化學(xué)基礎(chǔ)理論等,六安化學(xué)拋光劑,對硅單晶片化學(xué)機(jī)械拋光(cmp)機(jī)理、動力學(xué)控制過程和影響因素研究標(biāo)明,化學(xué)拋光劑價(jià)格,化學(xué)機(jī)械拋光是一個(gè)復(fù)雜的多相反應(yīng),它存在著兩個(gè)動力學(xué)過程:(1)拋光首先使吸附在拋光布上的拋光液中的氧化劑、催化劑等與襯底片表面的硅原子在表面進(jìn)行氧化還原的動力學(xué)過程。這是化學(xué)反應(yīng)的主體。(2)拋光表面反應(yīng)物脫離硅單晶表面,即解吸過程使未反應(yīng)的硅單晶重新出來的動力學(xué)過程。它是控制拋光速率的另一個(gè)重要過程。硅片的化學(xué)機(jī)械拋光過程是以化學(xué)反應(yīng)為主的機(jī)械拋光過程,要獲得質(zhì)量好的拋光片,必須使拋光過程中的化學(xué)腐蝕作用與機(jī)械磨削作用達(dá)到一種平衡。如果化學(xué)腐蝕作用大于機(jī)械拋光作用,則拋光片表面產(chǎn)生腐蝕坑、桔皮狀波紋。如果機(jī)械磨削作用大于化學(xué)腐蝕作用,則表面產(chǎn)生高損傷層。
后處理化學(xué)拋光后處理鋼鐵零件化學(xué)拋光,可以作為防護(hù)裝飾性電鍍的前處理工序,也可以作為化學(xué)成膜如磷化發(fā)蘭的前處理工序。如不進(jìn)行電鍍或化學(xué)成膜,而直接應(yīng)用,可噴涂氨基清漆或清漆,烘干后有較好的防護(hù)裝飾效果。若噴漆前浸防銹鈍化水劑溶液,*蝕防護(hù)性將會進(jìn)一步提高。準(zhǔn)備工作工具:拋光機(jī)、羊毛盤、海綿盤、超細(xì)纖維布、遮蔽膜、遮蔽膠帶。材料:砂紙、拋光粗蠟,鏡面蠟拋光作用:去除油漆表面氧化層、淺層的劃痕、氧化造成的漆面失光等影響漆面外觀的問題。拋光用力原則:初始拋光時(shí)使用中等偏上壓力,使蠟有較好的切削力,后續(xù)收光可放松壓力;拋光面積以一臂距 離為準(zhǔn),拋光完畢后及時(shí)擦除殘余蠟斑。
化學(xué)拋光是在不供電情況下產(chǎn)生拋光效果,其拋光原理與利用電流作用的電解拋光在本質(zhì)上沒有太大差別?;瘜W(xué)拋光效果一般要比電解拋光效果差,在化學(xué)拋光中,化學(xué)拋光劑銷售,由于材料的質(zhì)量不均勻,會引起局部電位高低不一,產(chǎn)生局部陰陽*區(qū),化學(xué)拋光劑廠家,形成局部短路的微電池,使陽*發(fā)生局部溶解。而在電解拋光中由于外加電位的作用可以完全消除這種局部的陰*區(qū),進(jìn)行的電解,因此效果更好。
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